積體電路版圖設計教學研究論文
積體電路(integratedcircuit)是一種微型電子器件或部件。採用一定的工藝，把一個電路中所需的電晶體、電阻、電容和電感等元件及佈線互連一起，製作在一小塊或幾小塊半導體晶片或介質基片上，然後封裝在一個管殼內，成為具有所需電路功能的微型結構;其中所有元件在結構上已組成一個整體，使電子元件向著微小型化、低功耗、智慧化和高可靠性方面邁進了一大步。它在電路中用字母“IC”表示。積體電路發明者為傑克·基爾比(基於鍺(Ge)的積體電路)和羅伯特·諾伊思(基於矽(Si)的積體電路)。當今半導體工業大多數應用的是基於矽的積體電路。
積體電路(IntegratedCircuit)產業是典型的知識密集型、技術密集型、資本密集和人才密集型的高科技產業，是關係國民經濟和社會發展全域性的基礎性、先導性和戰略性產業，是新一代資訊科技產業發展的核心和關鍵，對其他產業的發展具有巨大的支撐作用。經過30多年的發展，我國積體電路產業已初步形成了設計、晶片製造和封測三業並舉的發展格局，產業鏈基本形成。但與國際先進水平相比，我國積體電路產業還存在發展基礎較為薄弱、企業科技創新和自我發展能力不強、應用開發水平急待提高、產業鏈有待完善等問題。在積體電路產業中，積體電路設計是整個產業的龍頭和靈魂。而我國積體電路設計產業的發展遠滯後於計算機與通訊產業，積體電路設計人才嚴重匱乏，已成為制約行業發展的瓶頸。因此，培養大量高水平的積體電路設計人才，是當前積體電路產業發展中一個亟待解決的問題，也是高校微電子等相關專業改革和發展的機遇和挑戰。[1_4]
一、積體電路版圖設計軟體平臺
為了滿足新形勢下積體電路人才培養和科學研究的需要，合肥工業大學(以下簡稱"我校”從2005年起藉助於大學計劃。我校相繼開設了與積體電路設計密切相關的本科課程，如積體電路設計基礎、模擬積體電路設計、積體電路版圖設計與驗證、超大規模積體電路設計 、ASIC設計方法、硬體描述語言等。同時對課程體系進行了修訂，注意相關課程之間相互銜接，關鍵內容不遺漏，突出積體電路設計能力的培養，透過對課程內容的精選、重組和充實，結合實驗教學環節的開展，構成了系統的積體電路設計教學過程。
積體電路設計從實現方法上可以分為三種：全定製(fullcustom)、半定製(Semi-custom)和基於FPGA/CPLD可程式設計器件設計。全定製積體電路設計，特別是其後端的版圖設計,涵蓋了微電子學、電路理論、計算機圖形學等諸多學科的基礎理論，這是微電子學專業的辦學重要特色和人才培養重點方向，目的是給本科專業學生打下堅實的設計理論基礎。
在積體電路版圖設計的教學中，採用的是中電華大電子設計公司設計開發的九天EDA軟體系統(ZeniEDASystem),這是中國唯1的具有自主智慧財產權的EDA工具軟體。該軟體與國際上流行的EDA系統相容，支援百萬門級的積體電路設計規模，可進行國際通用的標準資料格式轉換，它的某些功能如版圖編輯、驗證等已經與國際產品相當甚至更優，已經在商業化的積體電路設計公司以及東南大學等國內二十多所高校中得到了應用，特別是在模擬和高速積體電路的設計中發揮了強大的功能，併成功開發出了許多實用的積體電路晶片。
九天EDA軟體系統包括設計管理器，原理圖編輯器，版圖編輯工具，版圖驗證工具，層次版圖設計規則檢查工具，寄生引數提取工具，訊號完整性分析工具等幾個主要模組，實現了從積體電路電路原理圖到版圖的`整個設計流程。
二、積體電路版圖設計的教學目標
根據培養目標結合九天EDA軟體的功能特點，在本科生三年級下半學期開設了為期一週的以九天EDA軟體為工具的積體電路版圖設計課程。
在積體電路版圖設計的教學中，首先對積體電路設計的_些相關知識進行回顧，介紹版圖設計的基礎知識，如積體電路設計流程，CMOS基本工藝過程，版圖的基本概念，版圖的相關物理知識及物理結構，版圖設計的基本流程，版圖的總體設計，佈局規劃以及標準單元的版圖設計等。然後結合上機實驗，講解Unix和Linux作業系統的常用命令，詳細闡述基於標準單元庫的版圖設計流程，指導學生使用ZeniSE繪製電路原理圖，使用ZeniPDT進行NMOS/PMOS以及反相器的簡單版圖設計。在此基礎上，讓學生自主選擇_些較為複雜的單元電路進行設計，如資料選擇器、MOS差分放大器電路、二四譯碼器、基本RS觸發器、六管MOS靜態儲存單元等，使學生能深入理解積體電路版圖設計的概念原理和設計方法。最後介紹版圖驗證的基本思想及實現，包括設計規則的檢查(DRC),電路引數的檢查(ERC),網表一致性檢查(LVS),指導學生使用ZeniVERI等工具進行版圖驗證、查錯和修改。
積體電路版圖設計的教學目標是：
第熟練掌握華大EDA軟體的原理圖編輯器ZeniSE、版圖編輯模組ZeniPDT以及版圖驗證模組ZeniVER丨等工具的使用;瞭解工藝庫的概念以及工藝庫檔案technology的設定，能識別基本單元的版圖，根據版圖資訊初步提取出相應的邏輯圖並修改，利用EDA工具ZSE畫出電路圖並說明其功能，能夠根據版圖提取單元電路的原理圖。
第二，能夠編寫設計版圖驗證命令檔案(commandfile)。版圖驗證需要四個檔案(DRC檔案、ERC檔案、NE檔案和LVS檔案)來支援，要求學生能夠利用ZeniVER丨進行設計規則檢查DRC驗證並修改版圖、電學規則檢查(ERC)、版圖網表提取(NE)、利用LDC工具進行LVS驗證，利用LDX工具進行LVS的查錯及修改等。
第三，能夠基本讀懂和理解版圖設計規則檔案的含義。版圖設計規則規定了積體電路生產中可以接受的幾何尺寸要求和可以達到的電學效能，這些規則是電路設計師和工藝工程師之間的_種互相制約的聯絡手段，版圖設計規則的目的是使積體電路設計規範化，並在取得最佳成品率和確保電路可靠性的前提下利用這些規則使版圖面積儘可能做到最小。
第四，瞭解版相簿的概念。採用半定製標準單元方式設計版圖，需要有統一高度的基本電路單元版圖的版相簿來支援，這些基本單元可以是不同型別的各種閘電路，也可以是觸發器、全加器、暫存器等功能電路，因此，理解並學會版相簿的建立也是版圖設計教學的一個重要內容。
三、CMOS反相器的版圖設計的教學例項介紹
下面以一個標準CMOS反相器來簡單介紹一下積體電路版圖設計的一般流程。
1.內容和要求
根據CMOS反相器的原理圖和剖面圖，初步確定其版圖;使用EDA工具PDT開啟版圖編輯器;在版圖編輯器上依次畫出P管和N管的有源區、多晶矽及接觸孔等;完成必要的連線並標註輸入輸出端。
2.設計步驟
根據CMOS反相器的原理圖和剖面圖，在草稿紙上初步確定其版圖結構及構成;開啟終端，進入pdt資料夾，鍵入pdt,進入ZeniPDT版圖編輯器;讀懂版圖的層次定義的檔案，確定不同層次顏色的對應，熟悉版圖編輯器各個命令及其快捷鍵的使用;在版圖編輯器上初步畫出反相器的P管和N管;檢查畫出的P管和N管的正確性，並作必要的修改，然後按照原理圖上的連線關係作相應的連線，最後檢查修改整個版圖。
3.版圖驗證
開啟終端，進入zse資料夾，鍵入zse,進入ZeniSE原理圖編輯器，正確畫出CMOS反相器的原理圖並匯出其網表文件;調出版圖設計的設計規則檔案，閱讀和理解其基本語句的含義，對其作相應的路徑和檔名的修改以滿足物理驗證的要求;開啟終端，進入pdt資料夾，鍵入pdt，進入ZeniPDT版圖編輯器，調出CMOS反相器的版圖，線上進行DRC驗證並修改版圖;對網表一致性檢查檔案進行路徑和檔名的修改，利用LDC工具進行LVS驗證;如果LVS驗證有錯，貝懦要呼叫LDX工具，對版圖上的錯誤進行修改。
4.設計提示
要很好的理解版圖設計的過程和意義，應對MOS結構有一個深刻的認識;需要對器件做襯底接觸，版圖實現上襯底接觸直接做在電源線上;接觸孔的大小應該是一致的，在不違反設計規則的前提下,接觸孔應儘可能的多，金屬的寬度應儘可能寬;繪製圖形時可以多使用〃複製"操作，這樣可以大大縮小工作量，且設計的圖形滿足要求並且精確;注意P管和N管有源區的大小，一般在版圖設計上，P管和N管大小之比是2:1;注意整個版圖的整體尺寸的合理分配，不要太大也不要太小;注意不同的層次之間應該保持一定的距離，層次本身的寬度的大小要適當，以滿足設計規則的要求。四、基本MOS差分放大器版圖設計的設計例項介紹在基本MOS差分放大器的版圖設計中，要求學生理解構成差分式輸入結構的原理和組成結構，畫出相應的電路原理圖，進行ERC檢查，然後根據電路原理圖用PDT工具上繪製與之對應的版圖。當將基本的版圖繪製好之後，對版圖裡的輸入、輸出埠以及電源線和地線進行標註，然後利用幾何設計規則檔案進行線上DRC驗證，利用版圖與電路圖的網表文件進行LVS檢查，修改其中的錯誤並最佳化版圖，最後全部透過檢查，設計完成。
五、結束語
積體電路版圖設計的教學環節使學生鞏固了積體電路設計方面的理論知識，提高了學生在積體電路設計過程中分析問題和解決問題的能力，為今後的職業生涯和研究工作打下堅實的基礎。因此，在今後的教學改革工作中，除了要繼續提高教師的理論教學水平外，還必須高度重視以EDA工具和設計流程為核心的實踐教學環節，努力把課堂教學和實際設計應用緊密結合在一起，培養學生的實際設計能力，開闊學生的視野，在實驗專案和實驗內容上進行新的探索和實踐。
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